本实用新型涉及金刚石膜生长领域,尤其涉及一种气体外循环型热丝CVD金刚石膜生长装置｡该装置在密闭真空室中设置反应腔,反应腔顶端设有循环通风口,循环通风口的下方反应腔中并排设置加热管组,反应腔内加热管组的下方设有放置硅片衬底的衬底盘,衬底盘上设有热电偶;真空室的顶部设有进气口,真空室的底部设有抽气口;循环进风口通过管路与真空室的侧面连通,形成外循环风道｡本实用新型可以实现金刚石膜的大面积､高速率生长,并减少氢气的消耗,降低生产成本｡