本实用新型涉及一种用于高纯材料生长的CVD管式炉，属于真空辅助设备技术领域。该CVD管式炉在加热炉体内沿水平方向穿设有石英管，石英管的两端分别与进气密封法兰、排气密封法兰相连，石英管内设有基片台，基片台上放置基片，与基片平行的上方设有喷头，喷头与基片相对应面上均匀开设喷淋孔，喷头与水平设置的喷淋管一端相连通，喷淋管的另一端穿过进气密封法兰与输气管路的一端相连通，输气管路的另一端反应气源相连通；抽真空管路的一端穿过排气密封法兰与石英管内腔相通，抽真空管路的另一端与真空系统相连通。采用本实用新型在反应前石英管内抽真空后充入反应气体，全程无气体杂质气体，其结构简单，操作简便，价格低廉。