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设备名称: SQUID
设备名称: PPMS
 
  用  途: 测量物质的磁性能和电性能。   用  途: 材料的电学、磁学性能测量 
  设备参数: 磁场最高可达7T,温度范围1.9K-400K,测量精度可达10-8emu。


  设备参数:

温控范围: 1.9K - 400K连续控制, 温度扫描速率:0.01 - 8 K/min 温度稳定性: ±0.2% T < 10K

         
     
设备名称:

分子束外延-扫描隧道显微镜集成系统

设备名称: 超净间
 
  用  途: 制备各种金属及氧化物材料的薄膜及原位表征和磁性测量   用  途: 薄膜样品处理
  设备参数: 真空可至10-8Pa,薄膜制备及磁性测量温度范围77K-800K。   设备参数:  
         
     
设备名称: 探针台
设备名称: 钨极磁控电弧真空熔炼炉
 
  用  途: 低维器件测试   用  途: 制备各种合金,一次熔炼即可炼出均匀的合金铸锭。
  设备参数:


  设备参数: 最高温度可达3000摄氏度。真空度可至10-4Pa,可同时熔炼三个样品,坩埚为直径5cm的半球,可熔炼5-80g的样品。
         
     
设备名称: 工业显微镜
设备名称: 真空甩带系统
 
  用  途: 二维器件堆垛   用  途: 非晶条带制备
  设备参数: Nikon LV100ND Microscope

  设备参数: 表面线速度最高50m/s
         
     

设备名称:

磁光霍尔效应测量光学平台

设备名称:

微波加热设备

 
  用  途:      用  途: 制备功能材料薄膜样品
  设备参数:     设备参数: 微波频率2.45G Hz,功率500W,温度范围250-800度。
         
     

设备名称:

曙光超级计算机

设备名称:

铁电综合测试仪

 
  用  途:  计算机材料模拟计算用服务器   用  途: 测量铁电薄膜电致回线、疲劳、漏电性能
  设备参数: 72核CUP并行运算,16G内存,4*152TB。   设备参数: 测量 电压0-125V,频率1000-300000Hz
         
     

设备名称:

激光沉积溅射设备

设备名称:

真空退火炉

 
  用  途:  制备各种金属氧化物材料的薄膜   用  途: 薄膜样品的真空热处理
  设备参数: 真空可至10-6Pa   设备参数: 最高温度可至1200摄氏度,真空可至10-3Pa。
         
     
设备名称: 磁控溅射设备(进口)
设备名称: PPMS 拓展测量平台
 
  用  途: 磁性复合薄膜样品制备   用  途: 可进行器件的多种性能测量
  设备参数:     设备参数:  
         
     
设备名称: 磁控溅射设备 设备名称: 磁力显微镜  
  用  途: 可制备各种金属材料的薄膜   用  途: 薄膜样品表面形态表征
  设备参数: 真空可至10-6Pa   设备参数: 分辨率可达几十纳米
         
     
设备名称: 楔形键合机 设备名称: 真空退火炉  
  用  途: 微型器件电路的引线键合   用  途:  
  设备参数:     设备参数:  
         
     
设备名称: 离子束刻蚀与蒸镀复合系统 设备名称: 电弧蒸发沉积制粉设备  
  用  途: 薄膜样品微加工   用  途: 纳米粉制备
  设备参数:     设备参数:  
         
     
设备名称: 高温定向生长炉 设备名称: F-4500荧光分光光度计  
  用  途:     用  途: 光化学反应的研究
  设备参数:     设备参数: 波长范围200 ~ 730nm, 和零级光
扫描速度达30,000nm/min
波长移动速度:60,000nm/min
         
     
设备名称: 日立U-3010紫外可见光谱仪 设备名称: F-4500荧光分光光度计  
  用  途: 高灵敏度、高精确度光谱分析   用  途: 光化学反应的研究
  设备参数: 波长范围190~900nm
光谱带宽0.1、0.5、1、2、4、5nm可调
杂散光: U-3010 小于0.015%T
  设备参数: 波长范围200 ~ 730nm, 和零级光
扫描速度达30,000nm/min
波长移动速度:60,000nm/min
         
     
设备名称: KRUSS光学接触角测量仪 设备名称: 干燥箱  
  用  途: 测量液体的固液界面接触角   用  途:  
  设备参数: 接触角测量范围:0 to 180 °C
  设备参数:  
         
     
设备名称: 超微粒子制备设备 设备名称: 干燥箱  
  用  途: 用等离子体法制备超微粒子和纳米胶囊等   用  途:    
  设备参数: 真空可至10-4Pa,颗粒尺寸可达纳米尺度。   设备参数:    
         
     
设备名称: 电子天平 设备名称: 离心机  
  用  途:     用  途:  
  设备参数:     设备参数:  
           
             
设备名称: 霍尔磁强计

设备名称:

真空甩带设备

 
设备名称: 高能球磨设备
设备名称: 手套箱

 
设备名称: 进口CL6磁测仪 设备名称: 各种压机  
设备名称: 振动样品磁强计 设备名称: 交流初始磁化率测量仪  
设备名称: 匀胶机 设备名称: 净水器  
设备名称: 旋涂仪 设备名称: 可调净磁场  
             
 
 
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