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设备名称： SQUID
 设备名称： PPMS
  
  用　　途： 测量物质的磁性能和电性能。   用　　途： 材料的电学、磁学性能测量 
  设备参数： 磁场最高可达7T，温度范围1.9K－400K，测量精度可达10－8emu。


   设备参数：

温控范围： 1.9K - 400K连续控制, 温度扫描速率：0.01 - 8 K/min 温度稳定性： ±0.2% T < 10K

         
     
设备名称：

分子束外延-扫描隧道显微镜集成系统

 设备名称： 超净间
  
  用　　途： 制备各种金属及氧化物材料的薄膜及原位表征和磁性测量   用　　途： 薄膜样品处理
  设备参数： 真空可至10－8Pa，薄膜制备及磁性测量温度范围77K-800K。   设备参数：  
         
     
设备名称： 探针台
 设备名称： 钨极磁控电弧真空熔炼炉
  
  用　　途： 低维器件测试   用　　途： 制备各种合金，一次熔炼即可炼出均匀的合金铸锭。
  设备参数：


  设备参数： 最高温度可达3000摄氏度。真空度可至10－4Pa，可同时熔炼三个样品，坩埚为直径5cm的半球，可熔炼5-80g的样品。
         
     
设备名称： 工业显微镜
 设备名称： 真空甩带系统
  
  用　　途： 二维器件堆垛   用　　途： 非晶条带制备
  设备参数： Nikon LV100ND Microscope

   设备参数： 表面线速度最高50m/s
         
     

设备名称：

磁光霍尔效应测量光学平台

设备名称：

微波加热设备

 
  用　　途：　     用　　途： 制备功能材料薄膜样品
  设备参数：     设备参数： 微波频率2.45G Hz，功率500W，温度范围250-800度。
         
     

设备名称：

 曙光超级计算机

设备名称：

铁电综合测试仪

  
  用　　途：　 计算机材料模拟计算用服务器   用　　途： 测量铁电薄膜电致回线、疲劳、漏电性能
  设备参数： 72核CUP并行运算，16G内存，4*152TB。   设备参数： 测量 电压0-125V，频率1000-300000Hz
         
     

设备名称：

激光沉积溅射设备

设备名称：

真空退火炉

  
  用　　途：　 制备各种金属氧化物材料的薄膜   用　　途： 薄膜样品的真空热处理
  设备参数： 真空可至10－6Pa   设备参数： 最高温度可至1200摄氏度，真空可至10－3Pa。
         
     
设备名称： 磁控溅射设备（进口）
 设备名称： PPMS 拓展测量平台
  
  用　　途： 磁性复合薄膜样品制备   用　　途： 可进行器件的多种性能测量
  设备参数：     设备参数：  
         
     
设备名称： 磁控溅射设备 设备名称： 磁力显微镜  
  用　　途： 可制备各种金属材料的薄膜   用　　途： 薄膜样品表面形态表征
  设备参数： 真空可至10－6Pa   设备参数： 分辨率可达几十纳米
         
     
设备名称： 楔形键合机 设备名称： 真空退火炉  
  用　　途： 微型器件电路的引线键合   用　　途：  
  设备参数：     设备参数：  
         
     
设备名称： 离子束刻蚀与蒸镀复合系统 设备名称： 电弧蒸发沉积制粉设备  
  用　　途： 薄膜样品微加工   用　　途： 纳米粉制备
  设备参数：     设备参数：  
         
     
设备名称： 高温定向生长炉 设备名称： F-4500荧光分光光度计  
  用　　途：     用　　途： 光化学反应的研究
  设备参数：     设备参数： 波长范围200 ~ 730nm, 和零级光
扫描速度达30,000nm/min
波长移动速度：60,000nm/min
         
     
设备名称： 日立U-3010紫外可见光谱仪 设备名称： F-4500荧光分光光度计  
  用　　途： 高灵敏度、高精确度光谱分析   用　　途： 光化学反应的研究
  设备参数： 波长范围190～900nm
光谱带宽0.1、0.5、1、2、4、5nm可调
杂散光： U-3010 小于0.015%T 		  设备参数： 波长范围200 ~ 730nm, 和零级光
扫描速度达30,000nm/min
波长移动速度：60,000nm/min
         
     
设备名称： KRUSS光学接触角测量仪 设备名称： 干燥箱  
  用　　途： 测量液体的固液界面接触角   用　　途：  
  设备参数： 接触角测量范围：0 to 180 °C
   设备参数：  
         
     
设备名称： 超微粒子制备设备 设备名称： 干燥箱  
  用　　途： 用等离子体法制备超微粒子和纳米胶囊等   用　　途：    
  设备参数： 真空可至10－4Pa，颗粒尺寸可达纳米尺度。   设备参数：    
         
     
设备名称： 电子天平 设备名称： 离心机  
  用　　途：     用　　途：  
  设备参数：     设备参数：  
           
             
设备名称： 霍尔磁强计

设备名称：

真空甩带设备

  
设备名称： 高能球磨设备
 设备名称： 手套箱

  
设备名称： 进口CL6磁测仪 设备名称： 各种压机  
设备名称： 振动样品磁强计 设备名称： 交流初始磁化率测量仪  
设备名称： 匀胶机 设备名称： 净水器  
设备名称： 旋涂仪 设备名称： 可调净磁场  
             
 
 
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