本发明涉及透明导电薄膜技术领域，具体涉及一种提高透明导电薄膜光电性能的后处理方法。该方法首先制备得到透明导电薄膜；再将此透明导电薄膜放入到精密离子刻蚀仪101中，并调节设备电流电压到合适值；利用离子束轰扫薄膜表面去除表面吸附的一层不导电层从而提高薄膜的光电性能。采用本发明处理的透明导电薄膜，可大幅度提高薄膜的光电性能，操作简单，成本和能耗低，对生态环境无污染，不会损坏薄膜材料以及基底，适用于处理任何种类的透明导电薄膜且这种方法可配合传统的后处理使用进一步去提高透明导电薄膜的光电性能，具有很好的应用前景。